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氬離子拋光機

冠德ArNanoFab 100 氬離子拋光機可同時實現動態平面拋光和離子切割兩種模式，無論軟或硬，多孔或致密，脆性或韌性熱敏感或非均質多相復合型材料，都可獲得高質量的無損切割截面，配套電子顯微鏡、電子(離子)探針原子力顯微鏡等產品，實現樣品無損界面制備。

核心優勢

離子平面拋光和離子切割一體化技術，一套系統實現兩種模式，無需復雜的切換流程，簡潔方便

動態離子切割技術，實現樣品的往復平移和旋轉，最大切割長度達10mm，有效減少投影/遮擋效應

超大的平面拋光裝載尺寸50x25mm(直徑x高)，為原位實驗等大尺寸樣品提供可能

能量1-10kv連續可調，既可滿足低能區減少非晶層，又可兼顧高能區大幅提高制樣效率

應用案例

人造石墨+CNT顆粒截面特征

人造石墨顆粒截面特征

硬碳顆粒截面孔隙特征

負極極片顆粒剖面孔隙特征

人造石墨（a）和天然石墨（b）的剖面圖

如上圖所示，氬離子拋光加工后可得到非常平整、無損傷、真實的顆粒截面，可以清晰地觀察到鋰電池負極材料的真實剖面形貌，助力鋰電池負極材料研究。

氬離子拋光儀在追求高質量制樣的同時，兼顧產品持續更新，致力于開發出能夠滿足市場要求的制樣設備。