-
聯系電話
0512-68786805
14757974331 -
公眾號
回到頂部
氬離子拋光機
產品簡介：
ArNanoFab 100氬離子拋光機可同時實現動態平面拋光和離子切割兩種模式，無論軟或硬，多孔或致密，脆性或韌性，熱敏感或非均質多相復合型材料，都可獲得高質量的無損切割截面，此款氬離子拋光機配套電子顯微鏡、電子（離子）探針、原子力顯微鏡等產品，實現樣品無損界面制備。
咨詢電話：14757974331
核心優勢
技術參數
應用案例
- 離子平面拋光和離子切割一體化技術,一套系統實現兩種模式，無需復雜的切換流程，簡潔方便1
- 動態離子切割技術，實現樣品的往復平移和旋轉，最大切割長度達10mm ,有效減少投影/遮擋效應2
- 超大的平面拋光裝載尺寸50mm ×25mm(直徑×高)，為原位實驗等大尺寸樣品提供可能3
- 能量0.5-10kv連續可調，既可滿足低能區減少非晶層，又可兼顧高能區大幅提高制樣效率4
ArNanoFab 100氬離子拋光機應用案例
離子平面拋光后的頁巖截面揭示樣品表面納米級孔隙左圖為無機孔，右圖有機孔SEM圖像，石油地質領域。
離子切割后的手機柔性屏幕內部結構和材料特征SEM圖像，半導體領域。
離子切割后的電池材料截面揭示其內部結構，左圖電池陽極極片，右圖電池隔膜，SEM圖像，能源電池材料領域。
左圖氬離子拋光機進行離子切割后的芯片內部結構，右圖氬離子拋光機進行離子平面拋光后的芯片內部結構，SEM圖像半導體芯片領域。
平面拋光后的LED焊盤結構，SEM圖像，半導體光電領域。
低電壓平面拋光后的合成材料EBSD結果，EBSD圖像，新材料領域。
